期刊导读

文章目录

1 引言

2 SMO关键图形筛选技术

2.1 基于图形聚类的关键图形筛选方法

2.2 基于频谱分析的关键图形筛选方法

3 SMO的光源与掩模表征方法

3.1 光源表征方法

3.2 掩模表征方法

4 SMO优化算法

4.1 梯度算法

4.2 启发式算法

5 结束语

文章摘要:光刻机是集成电路制造的核心装备，光刻分辨率是光刻机的重要性能指标。作为提高光刻机分辨率的重要手段，分辨率增强技术可以推动芯片向更高集成度发展。光源掩模联合优化（SMO）通过同时优化光源和掩模图形提高光刻分辨率，是28 nm及以下技术节点必不可少的分辨率增强技术之一。光源与掩模的准确表征是SMO技术的基础，高效的优化算法是对光源和掩模进行优化的核心手段。SMO技术应用于全芯片的前提是进行关键图形筛选。本文回顾了SMO技术的发展历史，并结合本团队对SMO技术的研究，介绍了关键图形筛选方法、光源与掩模表征方法和优化算法的基本原理和国内外的研究进展。

文章关键词:

论文分类号:TN405

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